VMF Reactor | 培養装置 | 佐竹マルチミクス株式会社

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VMF Reactor

上下往復動式培養撹拌装置

要求仕様に沿った専用機開発・カスタマイズ対応・シングルユース対応

VMF Reactorは、優れた混合性能と穏やかな撹拌を両立した上下往復動式の次世代型の往復動培養撹拌装置です。一般的な回転式と異なり、シビアなせん断力のコントロールが可能です。また、複雑な回転軸シール機構が不要で「完全密閉構造」を実現。コンタミや漏出の危険もなく無菌・クリーン性が高いものとなっています。
専用コントローラ『S-BOX×10α II』により、PI制御を含む各種パラメーターの変更も簡単にできます。また、カスタマイズにより8連機まで対応します。

上下往復動専用撹拌翼

VM100

VM200

公益社団法人化学工学会が顕著な功績のあった業績を表彰する学会表彰において、VMFリアクターの開発・製品化が「2020年度技術賞」を受賞しております。　　　

せん断作用の抑制と良好な混合作用を両立し、
培養に最適な環境を作りだします！！

■せん断応力の比較

■培養事例

CHO細胞による培養比較

VMF Reactorは、培養槽内において細胞に対して最適な物理的環境を与えることで、回転式バイオリアクターと比較して細胞培養に適した槽内環境を作り出し、MRF Reactorを凌ぐ高い生細胞率を維持します。剪断ダメージに強い細胞ですと、この優位性は薄れますが、剪断ダメージに依存する細胞培養では優れた性能を発揮します。結果として、生産物の産生量を増大させます。

▼　VMF Reactor 仕様　（クリックで詳細を開く）

項目		仕様
製品名		VMF Reactor
型式		VMF-05	VMF-1	VMF-3	VMF-10
温度管理方法		バンドヒータ方式（PID制御） *過昇温防止機能付（MAX 80 [℃]）
直動伝達方式		リニアシャフトドライブノンシール式
通気方式		上面通気／（オプション：焼結金属方式）
性能^※１	温度調整範囲	室温＋5～20 [℃]（通常37 [℃]設定）
	温度調整精度	±0.3 [℃]（37 [℃]）
	最大上下動ストローク	40 [mm]
	最大翼速度	300 [mm/s]
機能	温度設定	タッチパネル入力、記録出力 DC1～5 [V]
機能	上下動設定	タッチパネル入力、記録出力 DC0～5 [V]
構成	バンドヒータ出力	60 [W]	105 [W]	160 [W]	480 [W]
	モータ出力	最大出力 800 [W]
	撹拌翼	VM200	VM100＋VM200^※2
規格	培養槽寸法	内径 90×深さ 200 [mm]	内径 110×深さ 169 [mm]	内径 140×深さ 203 [mm]	内径 200×深さ 360 [mm]
規格	培養槽仕込容量	0.3 [L]	1.2 [L]	2.4 [L]	7 [L]
使用周囲温度範囲		10～35 [℃]
装置外形寸法		W360×D485×H905 [mm]
装置重量		約28 [kg]	約28 [kg]	約30 [kg]	約34 [kg]
電源		AC100 [V]、50／60 [Hz]
※１　性能は室温20 [℃]、電圧 AC100 [V]、 50 [Hz]、無負荷時での値です。
※２　仕込み容量によりVM200のみの場合があります。

▼　S-BOX×10αⅡ 仕様　（クリックで詳細を開く）

項目	仕様
名称	培養コントローラ
型式	S-BOX×10αII
制御内容	pH制御、DO制御（溶存酸素）、FL（O₂流量）、ローラーポンプON／OFF
表示範囲・精度	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]		表示精度： ±0.5 [％] F.S.
	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	DO（溶存酸素）		0.00～20.00 [mg/L]
	DO（溶存酸素）		0.00～20.00 [mg/L]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
制御設定範囲	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	DO（溶存酸素）		0.00～10.00 [mg/L]
	DO（溶存酸素）		0.00～10.00 [mg/L]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
制御方式	pH（水素イオン濃度）		ON／OFF制御
	pH（水素イオン濃度）		ON／OFF制御
	DO（溶存酸素）		O₂加減算ステップ制御
			O₂加減算ステップ制御
			O₂及びN₂ON／OFF制御
			O₂及びN₂ON／OFF制御
			O₂PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
			O₂PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
	FL（O₂流量）		PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
	FL（O₂流量）		PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
記録出力	pH（水素イオン濃度）		データロガー付属 DC0～5 [V]　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（オプションで負荷率出力可）		出力精度： ±0.5 [％] F.S.
	pH（水素イオン濃度）
	DO（溶存酸素）
	DO（溶存酸素）
	FL（O₂流量）
	FL（O₂流量）
	撹拌周波数


	温度		DC 1～5 [V]


ケース材質	SUS304（塗装なし）、非防滴
設置方法	屋内卓上型
外形寸法・重量	W350×D400×H530 [mm]　・　約15 [kg]
周囲環境条件	温度	5～45 [℃]	湿度	20～85 [％]RH（結露なき事）
センサ	メトラー・トレド製　ポーラロ式DOセンサ／pHセンサ


	（オプション：オートマチックシステムリサーチ製　光学式DOセンサ）


ユーティリティ	電源	AC100 [V]、50／60 Hz、コンセント2ヶ口（コントローラ本体、記録計用）
	N₂	流量　50 [mL/min]以下　供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	O₂	流量 20 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	CO₂	流量 50 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	AIR	流量　150 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	*N₂、O₂、CO₂、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること