VerSus Reactor | 培養装置 | 佐竹マルチミクス株式会社

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VerSus Reactor

VMF Reactor/SPG膜スパージャーのコラボレーション

要求仕様に沿った専用機開発・カスタマイズ対応・シングルユース対応

VerSus Reactorは、VMF Reactorと、極めて均一性の高いマイクロバブルを発生させることができる『SPG 膜スパージャー※』の技術を融合させた、今までにない新しい動物細胞培養用バイオリアクターです。SPG膜スパージャーによる効率的な酸素供給により、培養槽内の動物細胞にストレスを与えることなく効率的に酸素を供給できます。また、DO通気流量が低減により泡沫層を抑制します。
専用コントローラ『S-BOX×10α II』により、PI制御を含む各種パラメーターの変更も簡単にできます。

SPG 膜スパージャー

マイクロバブルを槽内に均一に分散させることができます。

※SPG膜スパージャーは、宮崎県工業技術センターと日揮(株)の共同開発品です。

培養槽内の物理的作用をコントロールする「VMF Reactor」と
優れた微細気泡技術の「SPG 膜スパージャー」とのコラボレーション
「VerSus Reactor」により、さらなる生産効率の向上をお約束します。

■培養事例

CHO細胞による培養比較

VMF Reactorを用い、SPG膜スパージャー有無によるCHO細胞の増殖曲線を示します。SPG膜スパージャーを用いることで、大幅に培養成績が向上する事が判ります。極めて均一性の高い微細気泡により、弱い流動が乱させること無く、高いガス吸収性能は、泡沫層形成の要因となるDO通気流量を大幅に低減させます。トータル性能を大幅に向上させたのがVerSus Reactorです。

CHO細胞による抗体生産比較

せん断応力に対する依存性の高いCHＯ細胞を用い、コントロール8Lから150Lへのスケールアップ結果※を示します。ここでは、実際に市販されている抗体生産を行っています。本結果より、150Lスケールアップ条件においてコントロールの8Lとほぼ同じか、むしろそれを上回る抗体産生量が得られました。このスケールアップは、数値流体計算によりせん断ファクター一定にて実施しており、数値流体解析と培養の併用における優位性を証明しました。
※ 日揮（株）との共同研究成果

▼　VerSus Reactor 仕様　（クリックで詳細を開く）

項目		仕様
製品名		VerSus Reactor
型式		VSR-05	VSR-1	VSR-3	VSR-10
温度管理方法		バンドヒータ方式（PID制御） *過昇温防止機能付（MAX 80 [℃]）
直動伝達方式		リニアシャフトドライブノンシール式
通気方式		シラスポーラスガラス（SPG）膜方式（追加オプション：焼結金属方式）
性能^※１	温度調整範囲	室温＋5～20 [℃]（通常37 [℃]設定）
	温度調整精度	±0.3 [℃]（37 [℃]）
	最大上下動ストローク	40 [mm]
	最大翼速度	300 [mm/s]
機能	温度設定	タッチパネル入力、記録出力 DC1～5 [V]
機能	上下動設定	タッチパネル入力、記録出力 DC0～5 [V]
構成	バンドヒータ出力	60 [W]	105 [W]	160 [W]	480 [W]
	モータ出力	最大出力 800 [W]
	撹拌翼	VM200	VM100＋VM200^※２
規格	培養槽寸法	内径 90×深さ 200 [mm]	内径 110×深さ 169 [mm]	内径 140×深さ 203 [mm]	内径 200×深さ 360 [mm]
規格	培養槽仕込容量	0.3 [L]	1.2 [L]	2.4 [L]	7 [L]
使用周囲温度範囲		10～35 [℃]
装置外形寸法		W360×D485×H905 [mm]
装置重量		約28 [kg]	約28 [kg]	約30 [kg]	約34 [kg]
電源		AC100 [V]、50／60 [Hz]
※１　性能は室温20 [℃]、電圧 AC100 [V]、 50 [Hz]、無負荷時での値です。
※２　仕込み容量によりVM200のみの場合があります。

▼　S-BOX×10αⅡ 仕様　（クリックで詳細を開く）

項目	仕様
名称	培養コントローラ
型式	S-BOX×10αII
制御内容	pH制御、DO制御（溶存酸素）、FL（O₂流量）、ローラーポンプON／OFF
表示範囲・精度	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]		表示精度： ±0.5 [％] F.S.
	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	DO（溶存酸素）		0.00～20.00 [mg/L]
	DO（溶存酸素）		0.00～20.00 [mg/L]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
制御設定範囲	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	DO（溶存酸素）		0.00～10.00 [mg/L]
	DO（溶存酸素）		0.00～10.00 [mg/L]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
制御方式	pH（水素イオン濃度）		ON／OFF制御
	pH（水素イオン濃度）		ON／OFF制御
	DO（溶存酸素）		O₂加減算ステップ制御
			O₂加減算ステップ制御
			O₂及びN₂ON／OFF制御
			O₂及びN₂ON／OFF制御
			O₂PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
			O₂PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
	FL（O₂流量）		PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
	FL（O₂流量）		PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
記録出力	pH（水素イオン濃度）		データロガー付属 DC0～5 [V]　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（オプションで負荷率出力可）		出力精度： ±0.5 [％] F.S.
	pH（水素イオン濃度）
	DO（溶存酸素）
	DO（溶存酸素）
	FL（O₂流量）
	FL（O₂流量）
	撹拌周波数


	温度		DC 1～5 [V]


ケース材質	SUS304（塗装なし）、非防滴
設置方法	屋内卓上型
外形寸法・重量	W350×D400×H530 [mm]　・　約15 [kg]
周囲環境条件	温度	5～45 [℃]	湿度	20～85 [％]RH（結露なき事）
センサ	メトラー・トレド製　ポーラロ式DOセンサ／pHセンサ


	（オプション：オートマチックシステムリサーチ製　光学式DOセンサ）


ユーティリティ	電源	AC100 [V]、50／60 Hz、コンセント2ヶ口（コントローラ本体、記録計用）
	N₂	流量　50 [mL/min]以下　供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	O₂	流量 20 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	CO₂	流量 50 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	AIR	流量　150 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	*N₂、O₂、CO₂、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること