MRF-RB Reactor | 培養装置 | 佐竹マルチミクス株式会社

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MRF-RB Reactor

RB Mixing Systemと組み合わせた低剪断型高分散撹拌システム

要求仕様に沿った専用機開発・カスタマイズ対応・シングルユース対応

MRF-RB Reactorは、高性能撹拌装置として開発され、最大3000tonクラスのバイオマスリアクターに採⽤実績を有する低剪断型高効率撹拌システム” サタケスーパーミックス^® RB Mixing System”を搭載したバイオリアクターです。
境界層効果と、竜巻の原理を応⽤した次世代型のミキシングシステムであり、低剪断・低動力にて優れた均一分散性能を有しており、液面変動のない連続培養を基本とする培養条件であれば、藻類培養に限らず動物細胞培養、再生医療分野での培養に最適です。極めて容易に大型化も可能であり、研究段階から実機に向けた生産検討に最適です。別途、シングルユース化等のカスタマイズにもお応えいたします。

高効率ミキシングシステムを搭載した
低動力・低剪断作⽤の連続培養装置。

■RB Mixing system

撹拌は一般的には、インペラによって液を流動化させて行います。RBミキシングシステムにおけるインペラの役目は、積極的な撹拌ではありません。ヒントは自然界の流れと整流作⽤、そして家屋をも吸い上げてしまう竜巻にありました。その“ 整流作⽤と竜巻を撹拌槽内で造り出したらどうなるのか” と考えたのです。
インペラによって撹拌槽内に旋回流を作り出し、撹拌槽底部で中心に向かう旋回流（境界層効果）を効率良く竜巻状の上昇流に交換する『放射状ブレード（Radial Blade）』から構成され、従来の撹拌に対する概念からは考えられないフローパターンを形成するシステムとして確立しました。RB の由来は、このRadial Blade の頭文字となります。旋回流が主流のため、翼近傍での相対速度差を減じることにより、極めて低剪断作⽤ながら、培養槽内における細胞の均一分散性に優れた能力を発揮、バイオ分野をはじめ製薬、創エネルギー（水処理分野）などにおいて、効率よく撹拌を行うことが可能です。

撹拌方式の比較表

※Vtlp：翼先端終速度

撹拌方式	最大上昇流速度係数％（対Vtlp※比率）	翼・液相対速度差係数（剪断速度比率）	撹拌可能な最大縦長比（液深H / 槽径D）
SUPER-MIX RB mixing system	87	0.4	5以上可能
4枚邪魔板付撹拌	30	0.8	2程度迄
邪魔板無し撹拌	15	0.4	1.5程度迄

従来方式

RB Mixing System

CFDシミュレーション解析結果

高液深大循環流形成

流動作用（上）と剪断応力（下）

▼　MRF-RB Reactor 仕様　（クリックで詳細を開く）

項目		仕様
製品名		MRF-RB Reactor
型式		MRF-RB-3	MRF-RB-10
温度管理方法		バンドヒータ方式（PID制御） *過昇温防止機能付（MAX 80 [℃]）
直動伝達方式		マグネットドライブノンシール式
通気方式		シラスポーラスガラス（SPG）膜方式／焼結金属方式　（選択式）
性能^※１	温度調整範囲	室温＋5～20 [℃]（通常37 [℃]設定）
	温度調整精度	±0.3 [℃]（37 [℃]）
	回転範囲	5～200 [min^-1]
機能	温度設定	タッチパネル入力、記録出力 DC1～5 [V]
機能	回転数設定	タッチパネル入力、記録出力 DC0～10 [V]
構成	バンドヒータ出力	160 [W]	480 [W]
	モータ出力	最大出力 100 [W]
	撹拌翼	RB Mixing System
規格	培養槽寸法	内径 140×深さ 203 [mm]	内径 200×深さ 360 [mm]
規格	培養槽仕込容量	2.4 [L]	7 [L]
使用周囲温度範囲		10～35 [℃]
装置外形寸法		W360×D485×H905 [mm]
装置重量		約30 [kg]	約34 [kg]
電源		AC100 [V]、50／60 [Hz]
※１　性能は室温20 [℃]、電圧 AC100 [V]、 50 [Hz]、無負荷時での値です。

▼　S-BOX×10αⅡ 仕様　（クリックで詳細を開く）

項目	仕様
名称	培養コントローラ
型式	S-BOX×10αII
制御内容	pH制御、DO制御（溶存酸素）、FL（O₂流量）、ローラーポンプON／OFF
表示範囲・精度	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]		表示精度： ±0.5 [％] F.S.
	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	DO（溶存酸素）		0.00～20.00 [mg/L]
	DO（溶存酸素）		0.00～20.00 [mg/L]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
制御設定範囲	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	DO（溶存酸素）		0.00～10.00 [mg/L]
	DO（溶存酸素）		0.00～10.00 [mg/L]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
制御方式	pH（水素イオン濃度）		ON／OFF制御
	pH（水素イオン濃度）		ON／OFF制御
	DO（溶存酸素）		O₂加減算ステップ制御
			O₂加減算ステップ制御
			O₂及びN₂ON／OFF制御
			O₂及びN₂ON／OFF制御
			O₂PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
			O₂PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
	FL（O₂流量）		PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
	FL（O₂流量）		PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
記録出力	pH（水素イオン濃度）		データロガー付属 DC0～5 [V]		出力精度： ±0.5 [％] F.S.
	pH（水素イオン濃度）
	DO（溶存酸素）
	DO（溶存酸素）
	FL（O₂流量）
	FL（O₂流量）
	回転数		DC0～10 [V]
	回転数		DC0～10 [V]
	温度		DC1～5 [V]
	温度		DC1～5 [V]
ケース材質	SUS304（塗装なし）、非防滴
設置方法	屋内卓上型
外形寸法・重量	W350×D400×H530 [mm]　・　約15 [kg]
周囲環境条件	温度	5～45 [℃]	湿度	20～85 [％]RH（結露なき事）
センサ	メトラー・トレド製　ポーラロ式DOセンサ／pHセンサ


	（オプション：オートマチックシステムリサーチ製　光学式DOセンサ）


ユーティリティ	電源	AC100 [V]、50／60 Hz、コンセント2ヶ口（コントローラ本体、記録計用）
	N₂	流量　50 [mL/min]以下　供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	O₂	流量 20 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	CO₂	流量 50 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	AIR	流量　150 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	*N₂、O₂、CO₂、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること

▼　S-BOX×10 Simple 仕様　（クリックで詳細を開く）

項目	仕様
名称	培養コントローラ
型式	S-BOX×10 Simple
制御内容	pH制御、DO制御（溶存酸素）
表示範囲・精度	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]		表示精度： ±0.5 [％] F.S.


	DO（溶存酸素）		0.00～20.00 [mg/L]


制御設定範囲	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]


	DO（溶存酸素）		0.00～10.00 [mg/L]


制御方式	pH（水素イオン濃度）		ON／OFF制御




	DO（溶存酸素）




記録出力	pH（水素イオン濃度）		データロガー付属 DC0～5 [V]		出力精度： ±0.5 [％] F.S.
	pH（水素イオン濃度）
	DO（溶存酸素）



	回転数		DC0～10 [V]
	回転数		DC0～10 [V]
	温度		DC1～5 [V]
	温度		DC1～5 [V]
ケース材質	SUS304（塗装なし）、非防滴
設置方法	屋内卓上型
外形寸法・重量	W260×D300×H350 [mm]　・　約12 [kg]
周囲環境条件	温度	5～45 [℃]	湿度	20～85 [％]RH（結露なき事）
センサ	オートマチックシステムリサーチ製　光学式DOセンサ


	メトラー・トレド製　pHセンサ


ユーティリティ	電源	AC100 [V]、50／60 Hz、コンセント2ヶ口（コントローラ本体、記録計用）
	O₂	流量 20 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	CO₂	流量 50 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	AIR	流量　150 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	*O₂、CO₂、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること
	*O₂、CO₂、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること